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等离子体处理装置的阻抗匹配方法和等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置的阻抗匹配方法和等离子体处理装置。在一个实施方式中,等离子体处理装置的第一高频电源和第二高频电源分别输出连续波、调制波和双重调制波。在一个实施方式的方法中,对于确定第一高频电源的负载侧的阻抗的第一平均值和确定第二高频电源的负载侧的阻抗的第二平均值,根据从第一高频电源输出的第一高频功率和从第二高频电源输出的第二高频功率,使用两个平均化方法中的任意方法来求得。基于这些第一平均值和第二平均值来进行第一匹配器和第二匹配器的阻抗匹配。由此,能够比较简单地实现等离子体处理装置的第一匹配器和第二匹配器的匹配动作。

著录项

  • 公开/公告号CN110718441B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN201911153850.4

  • 发明设计人 永海幸一;山田纪和;

    申请日2017-10-26

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构11322 北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳;徐飞跃

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 12:54:08

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