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一种用于ESD保护电路的GGNMOS器件

摘要

本发明提供一种用于ESD保护的GGNMOS器件,包括:衬底,位于所述衬底上的P阱区,在所述P阱区中设有的若干漏极区,在所述P阱区表面、所述漏极区两侧设有的栅极区,在所述P阱区、所述栅极区的另一侧设有的源极区,在所述源极区之间设有的P型掺杂区,在所述源极区下方、紧挨所述源极区处设有的N阱区。所述用于ESD保护的GGNMOS器件既能解决非一致触发问题,又能解决泄漏通道中电阻降低、触发电压升高,静电电流不易泄漏的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN101866922B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201010172659.7

  • 发明设计人 胡剑;

    申请日2010-05-12

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人郑玮

  • 地址 201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 09:22:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-07

    授权

    授权

  • 2014-06-11

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 27/088 变更前: 变更后: 登记生效日:20140514 申请日:20100512

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-10-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/088 申请日:20100512

    实质审查的生效

  • 2010-10-20

    公开

    公开

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