用于等离子体处理工具原位工艺监控和控制的方法和装置

摘要

本发明提供了用于在方案的执行过程中实施自动的原位工艺控制模式的装置。所述装置包括被配置为至少在方案执行过程中收集传感器数据的第一集合以便于监控设定点的控制环路传感器，其中所述控制环路传感器是工艺控制环路的一部分。所述装置也包括被配置为至少收集传感器数据的第二集合的独立传感器，所述独立传感器不是工艺控制环路的一部分。所述装置还包括被配置为至少接收传感器数据的第一集合和传感器数据的第二集合中的至少一者的中心。所述装置还进一步包括与所述中心可通信地耦合的分析计算机，且所述分析计算机被配置为对传感器数据的第一集合和传感器数据的第二集合中的至少一者执行分析。