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一种用于相变存储器的富锑高速相变材料及其制备方法和应用

摘要

本发明涉及微电子技术领域的金属元素掺杂的相变材料,尤其涉及一种用于相变存储器的富锑高速相变材料及其制备方法和应用。一种用于相变存储器的富锑高速相变材料,其化学通式为:Ax(Sb2Te)1-x,x为原子百分比,其中A选自W、Ti、Ta或Mn,0<x<0.5。本发明所提供的相变材料与通常的GeSbTe材料类似,有利于实现高密度存储。其在外部电驱动纳秒级脉冲作用下具有可逆相变的材料。所述的W-Sb-Te相变材料的相变速度是GeSbTe材料的3倍,有利于实现高速相变存储器。

著录项

  • 公开/公告号CN102800808B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-08-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201210335321.8

  • 发明设计人 宋志棠;吴良才;彭程;饶峰;朱敏;

    申请日2012-09-11

  • 分类号H01L45/00(20060101);

  • 代理机构31219 上海光华专利事务所;

  • 代理人许亦琳;余明伟

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2022-08-23 09:20:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-20

    授权

    授权

  • 2013-01-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 45/00 申请日:20120911

    实质审查的生效

  • 2012-11-28

    公开

    公开

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