一种掩膜板组及应用掩膜板组确定对位精度范围的方法

摘要

本发明公开了一种掩膜板组及应用掩膜板组确定对位精度范围的方法，方法步骤如下：通过曝光将第一掩膜板上的至少一个第一标记转移至显示基板上需要对位的第一层上形成至少一个第一对位标记；通过曝光将至少一个第二掩膜板的第二标记转移到显示基板上需要对位的当前层形成与第一对位标记相对应的第二对位标记，第二对位标记包括一正方形；根据第二对位标记的正方形与第一对位标记的正方形和多个形状相同但大小不同的图案的位置确定当前光刻的对位精度范围。通过本发明，在无法建立测量坐标系或测量工具无法准确测量的情况下，可以确定光刻对位精度的范围，进一步还可以对光刻对位精度是否符合标准进行确定。