首页> 中国专利> 一种栅控二极管半导体存储器器件的制造方法

一种栅控二极管半导体存储器器件的制造方法

摘要

本发明属于半导体存储器器件制造技术领域,具体公开了一种栅控二极管半导体存储器器件的制造方法。本发明采用低温工艺制备栅控二极管半导体存储器器件,工艺过程简单、制造成本低,而且所制造的栅控二极管存储器器件具有大驱动电流、小亚阈值摆幅的优点。本发明所提出的栅控二极管半导体存储器器件的制造方法特别适用于平板显示、浮栅存储器以及基于柔性衬底的存储器器件的制造中。

著录项

  • 公开/公告号CN102593064B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-01-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN201210061480.3

  • 发明设计人 王鹏飞;林曦;孙清清;张卫;

    申请日2012-03-11

  • 分类号

  • 代理机构上海正旦专利代理有限公司;

  • 代理人陆飞

  • 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号

  • 入库时间 2022-08-23 09:17:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/8254 授权公告日:20140122 终止日期:20180311 申请日:20120311

    专利权的终止

  • 2014-01-22

    授权

    授权

  • 2014-01-22

    授权

    授权

  • 2012-11-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/8254 申请日:20120311

    实质审查的生效

  • 2012-11-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/8254 申请日:20120311

    实质审查的生效

  • 2012-07-18

    公开

    公开

  • 2012-07-18

    公开

    公开

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