在集成电路生产中清洗光刻胶的组合物

摘要

为了清洗光刻胶，本发明提出使用二甲亚砜(DMSO)或N-甲基吡咯烷酮(NMP)和3-甲氧基丙胺(MOPA)的混合物。有利地，往该混合物添加少量水和腐蚀抑制剂，如甲苯基三唑酸钠。