提高投影步进光刻机对准信号精度的方法

摘要

本发明涉及一种提高投影步进光刻机对准信号的方法，该方法在不占用更多的版图空间的情况下，使目标十字和对准十字的排列组合尽量多，以提高硅片的套准精度和良率，可以解决目前投影步进光刻机上普遍存在的因为产品工艺多样化所产生的对准信号差异问题，其中包括因为产线工艺波动或者产品工艺更改对产品对准信号的影响，将传统的通过单纯修改版参数一种方式来进行对准信号选择，变为修改版和工作台参数2种方式，通过2者之间相结合来进行对准信号选择。通过此改变，极大丰富了对准方式。