具有无穷大选择性的高深宽比蚀刻

摘要

本文提供了用于通过以下方式处理衬底的方法和装置：将衬底暴露于等离子体以同时(i)蚀刻下伏材料(例如，其包括一种或多种介电材料)中的特征，以及(ii)在位于介电材料上方的掩模上沉积上部掩模保护层，其中上部掩模保护层以选择性竖直定向方向沉积的方式形成在掩模的顶部。这种方法和装置可用于实现无穷大的蚀刻选择性，甚至在蚀刻高深宽比特征时也是如此。