激光直写曝光系统和激光直写曝光系统的曝光控制方法

摘要

本发明公开了一种激光直写曝光系统和激光直写曝光系统的曝光控制方法。所述激光直写曝光系统包括：底座，底座上分别设置有第一侧板和第二侧板；多个工作台，每个工作台与第一侧板、第二侧板在第一方向上可滑动连接，且每个工作台在第二方向上间隔排布；对准机构用于在任一工作台沿着第一方向移动至对准机构的对准工位时，沿第二方向移动使得对准焦面对准，以对任一工作台上的基板进行对准作业；光路机构，光路机构悬挂于第一侧板和第二侧板之间，用于在任一工作台沿着第一方向移动至光路机构的曝光工位时，沿第二方向移动使得曝光焦面对准，以对任一工作台上的基板进行曝光作业。采用该激光直写曝光系统可以提高生产效率，且结构简单稳定。