首页> 中国专利> 气雾冷凝化学沉积合成CuS:Ho稀磁半导体的方法

气雾冷凝化学沉积合成CuS:Ho稀磁半导体的方法

摘要

本发明的气雾冷凝化学沉积合成CuS:Ho稀磁半导体的方法属于稀磁半导体材料制备的技术领域,有以下步骤:将Cu离子与Ho离子混合溶液在超声波雾化机的作用下产生Cu离子与Ho离子混合气雾,然后与硫化氢气体在循环水的环境中在气体驱动装置的驱动下进行反应,在收集瓶内沉淀得到Ho掺杂CuS基稀磁半导体纳米颗粒CuS:Ho。本发明制备方法简单,成本低,能够满足批量生产的要求,得到的Ho掺杂CuS基稀磁半导体具有室温铁磁性。

著录项

  • 公开/公告号CN114715930A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 吉林大学;

    申请/专利号CN202210285059.4

  • 申请日2022-03-22

  • 分类号C01G3/00;C01G3/12;H01F1/40;H01F41/02;B82Y30/00;B82Y40/00;

  • 代理机构长春吉大专利代理有限责任公司;

  • 代理人王恩远

  • 地址 130012 吉林省长春市长春高新技术产业开发区前进大街2699号

  • 入库时间 2023-06-19 15:57:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-08

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号