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GaAs/ErAs单晶/GaAs宽带可饱和吸收器件

摘要

本发明公开了一种GaAs/ErAs单晶/GaAs宽带可饱和吸收器件,包括GaAs/ErAs单晶/GaAs可饱和吸收层和承载所述可饱和吸收层所需的光学元件。所述的GaAs/ErAs单晶/GaAs宽带可饱和吸收器件具有反射型和透射型两种结构;其中反射型可饱和吸收器件由上至下的材料分布为:功能层、可饱和吸收层、光学衬底和反射层;透射型可饱和吸收器件由上至下的材料分布为:功能层、可饱和吸收层和光学衬底。GaAs/ErAs单晶/GaAs宽带可饱和吸收器件无需低温生长,依赖单晶薄膜材料异质结构便可获得超快的弛豫时间,由于可饱和吸收层的缺陷密度低,器件的可靠性和一致性好,在脉冲激光器等领域应用前景广阔。

著录项

  • 公开/公告号CN114628983A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京大学;

    申请/专利号CN202011471890.6

  • 申请日2020-12-14

  • 分类号H01S3/11;

  • 代理机构南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人陈建和

  • 地址 210093 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号

  • 入库时间 2023-06-19 15:39:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-14

    公开

    发明专利申请公布

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