前驱体源布置和原子层沉积设备

摘要

本发明涉及用于原子层沉积反应器的前驱体源布置(2)和原子层沉积设备。前驱体源布置(2)包括阀室(40)，阀室(40)包括一个或多个供应阀(72)；以及前驱体源室(20、20’)，前驱体源室(20、20’)具有在前驱体源室(20、20’)内部的前驱体容器空间(23)。前驱体源室(20、20’)包括前驱体源传热元件(22)，其布置成加热在前驱体容器空间(23)内部的前驱体容器(30)。阀室(40)包括阀室传热元件(50)，其布置成加热阀室(40)内部的一个或多个阀(72)，并且阀室传热元件(50)布置成与前驱体源传热元件(22)传热接触。