退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN113811978A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-17
原文格式PDF
申请/专利权人 应用材料公司;
申请/专利号CN202080032706.X
发明设计人 苏希尔·安瓦尔;吴玉伦;J·库德拉;卡尔·A·索伦森;吉万·普拉卡什·塞奎拉;
申请日2020-04-28
分类号H01J37/32(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 13:43:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-01-04
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 专利申请号:202080032706X 申请日:20200428
实质审查的生效
机译: 用于平板显示器的大面积高密度等离子体处理室
机译: 用于平板显示器的大面积高密度等离子处理室
机译:用于大面积平板显示器等离子处理的线性感应天线设计
机译:用于大面积平板显示器等离子处理的低阻抗内部线性感应天线
机译:用于冷阴极的非晶半导体:通往大面积平板显示器的途径
机译:用于大面积平板显示器蚀刻的新型高密度等离子工具
机译:用于空气声学测试的化学腔室的设计及大UAS推进器分析
机译:PTW 34070大面积平面平行电离室的调试用于小场兆伏光子剂量学
机译:用于平板显示器的场发射阴极大面积沉积
机译:用于平板显示器的大面积场发射阴极沉积