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一种用于薄膜芯片键合的具有微结构凸起的柔性底座制作方法

摘要

本发明提供一种用于薄膜芯片键合的具有微结构凸起的柔性底座制作方法,属于微纳米制造领域。该底座用于薄膜芯片的键合,属于微纳米制造领域。首先,利用已成型的薄膜芯片作为凸模模具,通过浇注成型工艺,获得与薄膜芯片结构共形的柔性凹模;随后,利用光刻工艺在柔性凹模上制作出包围凹模结构形状的微结构凸起,从而得到具有微结构凸起的柔性底座。利用该柔性底座进行薄膜芯片的辅助键合,以加强薄膜芯片微结构周围的键合强度。本发明可根据薄膜芯片结构,制作出与之共形的凹模;并利用光刻技术可控制微结构凸起的形状和结构高度,从而实现对薄膜芯片键合的控制。

著录项

  • 公开/公告号CN113786870A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大连理工大学;

    申请/专利号CN202111069043.1

  • 发明设计人 刘军山;隋裕;吴梦希;徐征;

    申请日2021-09-13

  • 分类号B01L3/00(20060101);

  • 代理机构21102 辽宁鸿文知识产权代理有限公司;

  • 代理人苗青

  • 地址 116024 辽宁省大连市凌工路2号

  • 入库时间 2023-06-19 13:43:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-27

    授权

    发明专利权授予

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