退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN113471343A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-01
原文格式PDF
申请/专利权人 西安电子科技大学芜湖研究院;
申请/专利号CN202110802199.X
发明设计人 许晟瑞;贠博祥;许文强;陶鸿昌;王若冰;张雅超;张进成;郝跃;
申请日2021-07-15
分类号H01L33/14(20100101);H01L33/06(20100101);H01L33/00(20100101);
代理机构61205 陕西电子工业专利中心;
代理人王品华
地址 241000 安徽省芜湖市弋江区安徽信息工程学院西一楼
入库时间 2023-06-19 12:46:51
机译: GaN型发光二极管的制备方法和制备的GaN型发光二极管
机译: 在隧道层上使用P型欧姆金属形成的基于GAN的发光二极管
机译:基于InGaN的绿色发光二极管的系统和数值研究:Si掺杂量子屏障,工程化P封闭层和Aigan / GaN结构p型区域
机译:具有p型AIGaN电子阻挡层的N极基于GaN的蓝绿色发光二极管的仿真和制造
机译:Ni / Ga掺杂的ZnO层作为基于GaN的发光二极管的透明p型欧姆接触
机译:Ag膜上的石墨烯,用于与GaN基发光二极管中的p型GaN形成反射导电层欧姆接触
机译:III型氮化物蓝光和绿光发光二极管内部量子效率的损失机理
机译:梯度铟成分p型InGaN层增强GaN基绿色发光二极管的量子效率
机译:具有p-GaN / n-GaN / p-GaN / n-GaN / p-GaN电流扩散层的改进型InGaN / GaN发光二极管
机译:在HpVE生长的模板和自支撑GaN衬底上的N型GaN层的mOCVD生长和蚀刻