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光罩及光罩缺陷检查的方法

摘要

本发明提供一种光罩及光罩缺陷检查的方法,在光罩的切割道区域设置标记图形,并以标记图形的坐标为参考点建立光罩的缺陷检查程式,以实现完全offline的情况下建立光罩缺陷检查程式,不用占用其他光罩的扫片时间来建立缺陷检查程式,提升扫片机台利用率;且通过借助标记图形的坐标为参考点建立光罩的缺陷检查程式,可以大大缩短缺陷程式建立周期,节省人力。进一步的,本发明可以以标记图形为光源校准点和切割道特征图形校准点进行图像校准,实现多层光罩的缺陷检查程式有相同的光源校准点和切割道特征图形校准点,增加缺陷检查程式的共性,进一步节省程式建立时间以及程式共用几率,一定程度上提高机台的检查效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113009775A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广州粤芯半导体技术有限公司;

    申请/专利号CN202110213561.X

  • 发明设计人 龙春艳;周宏玉;

    申请日2021-02-25

  • 分类号G03F1/44(20120101);G03F1/84(20120101);G01N21/958(20060101);

  • 代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人罗磊

  • 地址 510000 广东省广州市中新广州知识城九佛建设路333号自编701室(自主申报)

  • 入库时间 2023-06-19 11:32:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-11

    著录事项变更 IPC(主分类):G03F 1/44 专利申请号:202110213561X 变更事项:申请人 变更前:广州粤芯半导体技术有限公司 变更后:粤芯半导体技术股份有限公司 变更事项:地址 变更前:510000 广东省广州市中新广州知识城九佛建设路333号自编701室(自主申报) 变更后:510000 广东省广州市中新广州知识城九佛建设路333号自编701室(自主申报)

    著录事项变更

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