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一种含有插层的石墨烯/硅肖特基结光电探测器及制备工艺

摘要

本发明公开了一种含有插层的石墨烯/硅肖特基结光电探测器及制备工艺。该探测器包括硅基底、二氧化硅、背面电极、硅窗口、钆铁石榴石插层、石墨烯和正面环形电极。利用钆铁石榴石薄膜优异的绝缘性能提高石墨烯/硅肖特基结的势垒高度,进而增大内建电场并抑制反向饱和暗电流;利用钆铁石榴石薄膜优异的均匀性和连续性,钝化硅表面,降低表面态密度,进而减小表面复合暗电流。使得该探测器的暗电流得到抑制,光电流提到提升,进而提高器件的开关比、探测率及可靠性。相应的制备工艺操作简单,稳定性好。本发明有助于突破远距离微弱辐射信号探测的技术瓶颈。

著录项

  • 公开/公告号CN112993075A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN202110179575.4

  • 申请日2021-02-07

  • 分类号H01L31/108(20060101);H01L31/0216(20140101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人闵岳峰

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号

  • 入库时间 2023-06-19 11:27:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-16

    授权

    发明专利权授予

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