用于浸没式光刻胶的含氟化合物及其制备方法、光刻胶

摘要

本发明提供了一种用于浸没式光刻胶的含氟化合物及其制备方法，该方法包括：在反应容器中加入预备化合物、4‑二甲氨基吡啶、l‑乙基‑(3‑二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐以及三氯甲烷，混合均匀形成反应体系；向反应体系中滴加N,N‑二甲基丙二胺，反应生成含氟化合物；其中，预备化合物的化学结构为n≧1，为整数。本发明还提供一种添加含氟化合物的浸没式光刻胶。采用本技术方案提供的制备工艺制作出的含氟化合物，添加至光刻胶中能够防止纯水中的杂质污染光刻机镜头，有效降低杂质对镜头的污染。采用本发明提供的技术方案替代现有的加疏水层的配方，具有工艺简单、生产周期短、生产效率得到提高、节约生产成本等优点。