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周再发; 黄庆安; 李伟华; 卢伟;
东南大学MEMS教育部重点实验室,江苏南京,210096;
元胞自动机; 工艺模拟; 光刻模拟; 工艺模型;
机译:二维动态CA方法用于光刻胶刻蚀模拟的改进及其在SU-8光刻胶深紫外光刻模拟中的应用
机译:用于光刻胶刻蚀过程仿真的新型二维动态细胞自动机模型
机译:适用于0.13μm技术的双栅极氧化物的湿法氧化物刻蚀及其他:与光刻胶和设备的相互作用
机译:二维动态细胞自动机模型,用于光刻胶刻蚀过程的仿真
机译:电感耦合等离子体刻蚀反应器中离子流和硅刻蚀速率的二维均匀性
机译:复杂的动态基材控制:双色调水凝胶光刻胶可实现形貌和模量的双重分离
机译:环氧光刻胶反应离子刻蚀的刻蚀速率优化
机译:用于过程模拟和模型开发的apROs(高级过程模拟器)软件
机译:用光刻胶制造半导体集成电路的方法,用于刻蚀沟槽的光刻胶工艺
机译:有机光刻胶去除成分,能够在硬烘烤,等离子刻蚀和高温灰化过程后有效去除光刻胶和光刻胶残留物
机译:动态二维码评估方法,动态二维码评估系统和动态二维码评估程序
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