MEMS麦克风的制备方法及MEMS器件的牺牲层的释放方法

摘要

本发明提供了一种MEMS麦克风的制备方法及MEMS器件的牺牲层的释放方法，在衬底上形成氧化层及结构层，在结构层的表面以及结构层内的释放孔的内壁上形成金属氧化物层，然后利用气相腐蚀工艺经由释放孔释放氧化层。在释放氧化层时，金属氧化物层能够提高结构层在气相腐蚀工艺中的耐熏蒸腐蚀能力，但对氧化层在气相腐蚀工艺中的耐熏蒸腐蚀能力的影响不大，相当于提高了结构层和氧化层在气相腐蚀工艺中的刻蚀选择比，从而在保证氧化层完全释放的情况下，避免结构层的表面被损伤，进而提高了MEMS器件的性能和可靠性。