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一种射频功率LDMOS器件封装级鲁棒性评估方法

摘要

一种射频功率LDMOS器件封装级鲁棒性评估方法,所述方法包括步骤:获取待评估射频功率LDMOS器件;对所述射频功率LDMOS器件进行TLP ESD测试;对高压工作的所述射频功率LDMOS器件进行Load‑pull测试;对预设鲁棒性工艺下的所述射频功率LDMOS器件进行VSWR测试;对低压工作的所述射频功率LDMOS器件进行UIS测试;综合根据所有测试结果得到鲁棒性评估结果。本申请提供的一种射频功率LDMOS器件封装级鲁棒性评估方法主要对封装级的射频功率LDMOS器件进行鲁棒性的评估,随着对鲁棒性研究的深入和工艺的不断优化,最终获得了可以和市场媲美的高鲁棒性LDMOS。

著录项

  • 公开/公告号CN112526310A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN202011351763.2

  • 发明设计人 杜寰;

    申请日2020-11-26

  • 分类号G01R31/26(20140101);

  • 代理机构11302 北京华沛德权律师事务所;

  • 代理人王瑞琳

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号

  • 入库时间 2023-06-19 10:19:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-24

    专利权的视为放弃 IPC(主分类):G01R31/26 专利申请号:2020113517632 放弃生效日:20230324

    专利权的视为放弃

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