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一种低雾度透明导电膜及其制备方法

摘要

本发明提供了一种低雾度透明导电膜及其制备方法,所述低雾度透明导电膜包括透明基材、导电基元、第一雾度调控层和第二雾度调控层;所述导电基元在透明基材表面形成导电网络;所述第一雾度调控层包含吸光性物质,所述第一雾度调控层位于导电基元的表面;所述第二雾度调控层包含折射率大于空气的纳米颗粒,所述第二雾度调控层位于第一雾度调控层的表面。采用本发明的技术方案,利用涂覆于导电基元表面的第一雾度调控层、第二雾度调控层,通过吸收原理和全反射原理的协同作用,实现散射光总量的减少,从而降低了导电膜中导电基元引起的雾度;制备方法简单,容易实施。

著录项

  • 公开/公告号CN112530627A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202011276112.1

  • 发明设计人 邱业君;张立文;闫勇;

    申请日2020-11-16

  • 分类号H01B5/14(20060101);H01B13/00(20060101);

  • 代理机构44451 深圳市添源知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人黎健任

  • 地址 215300 江苏省苏州市昆山市巴城工业区东平路399号

  • 入库时间 2023-06-19 10:19:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-23

    授权

    发明专利权授予

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