机译:用于形成低透射率的透明导电膜,低透射率的透明导电膜,用于低透射率的透明导电膜的基础材料以及采用该基础材料的显示装置的涂布液
公开/公告号JP2005050668A
专利类型
公开/公告日2005-02-24
原文格式PDF
申请/专利权人 SUMITOMO METAL MINING CO LTD;
申请/专利号JP20030281285
申请日2003-07-28
分类号H01B1/24;G02B5/22;H01B5/14;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 22:31:02