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公开/公告号CN111769162A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-13
原文格式PDF
申请/专利权人 贵州民族大学;
申请/专利号CN202010598018.1
发明设计人 岳兰;孟繁新;任达森;罗胜耘;
申请日2020-06-28
分类号H01L29/786(20060101);H01L21/336(20060101);H01L29/10(20060101);
代理机构52114 贵州派腾知识产权代理有限公司;
代理人周黎亚
地址 550000 贵州省贵阳市花溪区溪北街道贵阳市一零一省道
入库时间 2023-06-19 08:31:50
机译: CMOS薄膜晶体管,其制造方法以及有机发光显示装置,该有机发光显示装置具有层叠的具有顶栅构造的PMOS多晶硅薄膜晶体管和具有倒置交错的底栅构造的NMOS氧化物薄膜晶体管
机译: 自对准顶栅非平面氧化物半导体薄膜晶体管
机译:在完全底栅和部分顶栅结构的非晶氧化物半导体薄膜晶体管中,偏置诱导的电离施主迁移
机译:栅极/漏极电压配置对具有自对准顶栅结构的非晶铟锌氧化物薄膜晶体管中电流应力不稳定性的影响
机译:活性层组成和结构对共面顶栅非晶氧化物薄膜晶体管器件性能的影响
机译:具有自对准顶栅结构的高性能非晶氧化物薄膜晶体管
机译:利用聚焦离子束制备非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管。
机译:CF4等离子体处理HfO2栅电介质的非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管的电性能和可靠性提高
机译:在完全底栅和部分顶栅结构的非晶氧化物半导体薄膜晶体管中,偏压诱导的电离施主迁移
机译:超柔性,不可见的薄膜晶体管,由非晶金属氧化物/聚合物沟道层混合物制成。