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晶片抛光腔室和包括晶片抛光腔室的晶片抛光系统

摘要

实施例的一个方面提供了一种晶片抛光腔室,其包括晶片传输部分;抛光部分,设置有上表面板和下表面板,并且被配置成抛光从晶片传输部分传输的晶片;分隔壁,被配置成将设置有传输部分和抛光部分的位置分隔开;多个风扇单元,被配置为引入空气;以及多个排气单元,被配置成排出空气,其中风扇单元可以被设置在抛光部分的上部中的至少一个中。

著录项

  • 公开/公告号CN108352312A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱思开矽得荣株式会社;

    申请/专利号CN201680065483.0

  • 发明设计人 李相昊;

    申请日2016-01-06

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人金红莲

  • 地址 韩国庆尚北道

  • 入库时间 2023-06-19 06:31:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/304 申请日:20160106

    实质审查的生效

  • 2018-07-31

    公开

    公开

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