半导体集成电路布局的设计方法和制造半导体装置的方法

摘要

一种半导体集成电路布局的设计方法和一种制造半导体装置的方法，所述设计方法包含选择包含至少一个第一栅极图案的第一单元布局；选择包含至少一个第二栅极图案的第二单元布局，所述至少一个第二栅极图案具有与所述至少一个第一栅极图案的栅极长度不同的栅极长度；从第一单元布局和第二单元布局生成图案布局；以及在图案布局上生成选择性交叠第一单元布局的掩模布局。