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用于光刻法中的光刻胶清洁组合物及其用于处理衬底的方法

摘要

本文公开了用于剥离膜厚度为3‑150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物,其包含(a)季铵氢氧化物、(b)水溶性有机溶剂的混合物、(c)至少一种腐蚀抑制剂和(d)水,及用该光刻胶清洁组合物处理衬底的方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C11D11/00 申请日:20160804

    实质审查的生效

  • 2018-05-11

    公开

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