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通过减少和去除金属氧化物形成接触和互连的系统和方法

摘要

本发明涉及通过减少和去除金属氧化物形成接触和互连的系统和方法。一种在阻挡层上沉积金属层的方法包括:a)将衬底布置在处理室中。衬底已暴露于空气和/或氧化化学品中的至少一种,并且包含阻挡层和一个或多个下伏层,其中所述阻挡层包含选自由氮化钽、氮化钛、钽和钛组成的群组中的材料。所述方法包括:b)将选自由肼、包含氟物质的气体、包含氯物质的气体、肼的衍生物、氨、一氧化碳、包含脒基的气体和/或包含金属有机配体的气体组成的群组中的气体提供至所述处理室持续预定时间段以从所述阻挡层去除氧化。所述方法包括:c)在b)之后在所述阻挡层上沉积金属层。所述金属层包含选自由钴、铜、钨、钌、铑、钼和镍组成的群组中的金属。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20171023

    实质审查的生效

  • 2018-05-01

    公开

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