首页> 中国专利> 掩模组件、包括掩模组件的沉积装置及掩模组件制造方法

掩模组件、包括掩模组件的沉积装置及掩模组件制造方法

摘要

本申请提供了掩模组件、包括掩模组件的沉积装置及掩模组件的制造方法。掩模组件包括掩模框架、掩模和磁性部分,其中:掩模由掩模框架支撑,掩模包括多个图案孔;磁性部分设置在掩模的一个表面上。磁性部分提供掩模与目标基板之间的磁力,并且增加掩模与目标基板之间的附着力以防止沉积缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN107868933A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星显示有限公司;

    申请/专利号CN201710857615.X

  • 申请日2017-09-21

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王达佐;刘铮

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 04:56:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/04 申请日:20170921

    实质审查的生效

  • 2018-04-03

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号