法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-22
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/64 申请日:20160122
实质审查的生效
2017-08-29
公开
公开
机译: 半导体基板缺陷检查装置,半导体基板缺陷检查方法以及使用该方法的半导体装置制造方法
机译: 半透明材料制成的半透明物品的检查方法,玻璃基板的缺陷,玻璃基板的坯料的缺陷的检查方法及装置,制造方法,制造方法,制造方法,制造方法,制造方法,制造方法半导体器件
机译: 缺陷基板检查装置,使用该检查装置的半导体制造装置以及缺陷基板检查方法