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外延再生长异质结构纳米线的横向隧道场效应晶体管

摘要

本发明涉及外延再生长异质结构纳米线的横向隧道场效应晶体管,其形成位于衬底上并且被栅极结构所围绕的掩埋纳米线段之后,覆盖该掩埋纳米线段的第二端及该栅极结构,在该掩埋纳米线段的第一端上生长外延源极区,随后覆盖该外延源极区及该栅极结构,在该掩埋纳米线段的第二端上生长外延漏极区。该外延源极区包括第一半导体材料以及第一导电类型的掺杂剂,而该外延漏极区包括与该第一半导体材料不同的第一半导体材料以及与第一导电类型相反的第二导电类型的掺杂剂。

著录项

  • 公开/公告号CN107039511A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 格罗方德半导体公司;

    申请/专利号CN201610915328.5

  • 申请日2016-10-20

  • 分类号

  • 代理机构北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 英属开曼群岛大开曼岛

  • 入库时间 2023-06-19 03:00:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/739 申请日:20161020

    实质审查的生效

  • 2017-08-11

    公开

    公开

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