等离子体耐蚀刻性得到提高的工艺部件及工艺部件的等离子体耐蚀刻性强化处理方法

摘要

本发明用于解决半导体或显示器制造设备的工艺部件暴露于等离子体而被蚀刻的问题，涉及在工艺部件涂敷陶瓷粉末之前后通过除去表面(工艺部件本体的表面及涂敷膜表面)的谷和峰来提高等离子体耐蚀刻性的方法及由此等离子体耐蚀刻性得到提高的工艺部件。本发明提供等离子体耐蚀刻性得到提高的工艺部件，作为暴露于等离子体的半导体或显示器制造设备工艺部件，其特征在于，在除去部分或全部谷和峰的本体的表面形成涂敷膜，从上述涂敷膜表面除去部分或全部谷和峰。