具有内部通道的化学机械研磨垫

摘要

提供了一种用于化学机械研磨的研磨垫。研磨垫包括具有支撑表面的基底区。研磨垫进一步包括多个研磨特征，该等特征形成研磨表面，该研磨表面与支撑表面相对。研磨垫进一步包括一个或多个通道，该等通道形成于研磨垫的内部区域中，且至少部分地围绕研磨垫的中心延伸，其中每一通道流体耦接至至少一个端口。