化学机械研磨抛光垫专利技术发展状况研究

摘要

化学机械抛光是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的重要技术,作为CMP系统的关键部件之一,抛光垫对抛光效率及抛光质量有着重要影响。本文通过对国内外抛光垫相关专利申请的分析,阐述抛光垫技术发展现状及未来发展趋势,为我国抛光垫相关技术的发展提供一些参考。