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公开/公告号CN106575656A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-04-19
原文格式PDF
申请/专利权人 硅存储技术公司;
申请/专利号CN201580042672.1
发明设计人 J.杨;M.吴;C.陈;C.苏;N.杜;
申请日2015-07-13
分类号H01L27/115(20170101);H01L29/423(20060101);H01L29/66(20060101);H01L29/788(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人申屠伟进;陈岚
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 01:53:56
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-05-17
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20150713
实质审查的生效
2017-04-19
公开
机译: 使用增强的横向控制栅到浮栅耦合,具有改进的缩放比例的分离栅闪存单元
机译: 使用增强型横向控制栅极至浮栅耦合的缩放比例的分栅闪存存储单元
机译: 由于控制栅和浮栅之间的横向耦合增强,具有改进的缩放比例的分离栅闪存单元
机译:分裂门闪存单元中的浮栅转角增强型多晶硅隧道
机译:异常的单元间干扰对p型浮栅和控制栅NAND闪存的影响
机译:具有周围浮栅(DC-SF)NAND闪存单元的新型三维双重控制栅
机译:共浮栅测试结构,用于分离分裂栅闪存单元中循环诱发的降解成分
机译:关于优化分裂栅闪存单元的设计。
机译:经过溶液处理的分子浮栅用于柔性闪存
机译:使用软二次电子编程来减少浮栅或闪存EEPROM中的漏极干扰
机译:后栅等离子体和溅射工艺对金属栅CmOs集成电路辐射硬度的影响