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一种应用于高压工艺集成电路中电源钳位结构

摘要

一种应用于高压工艺集成电路中电源钳位结构,包括单体MLSCR器件,其包含P阱和N阱,P阱和N阱之间有一桥状P+注入区,所述桥状P+注入区的尺寸范围在2.5μm~10.0μm,所述电源钳位结构还可采用至少两个上述单体MLSCR器件级联,每个上一级单体MLSCR器件的负极和下一级单体MLSCR器件的正极通过金属连接,且第一级单体MLSCR器件的正极为级联结构的正极,最后一级单体MLSCR器件的负极为级联结构的负极,该电源钳位结构,其单位面积静电防护能力强,通过桥状P+注入区的尺寸调节控制钳位电压,随着级联级数的倍增,级联器件的触发电压值以及钳位电压值也跟着倍增,不用较多的实验计算,易于普及应用。

著录项

  • 公开/公告号CN102169881B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉芯安微电子技术有限公司;

    申请/专利号CN201110037055.6

  • 发明设计人 刘志伟;

    申请日2011-02-14

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L29/87(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构11221 北京捷诚信通专利事务所(普通合伙);

  • 代理人魏殿绅;庞炳良

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖开发区东信路数码港E栋1-4

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 27/02 授权公告日:20130116 终止日期:20170214 申请日:20110214

    专利权的终止

  • 2013-07-10

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/02 变更前: 变更后: 登记生效日:20130619 申请日:20110214

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-07-10

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/02 变更前: 变更后: 登记生效日:20130619 申请日:20110214

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-01-16

    授权

    授权

  • 2013-01-16

    授权

    授权

  • 2011-10-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/02 申请日:20110214

    实质审查的生效

  • 2011-10-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/02 申请日:20110214

    实质审查的生效

  • 2011-08-31

    公开

    公开

  • 2011-08-31

    公开

    公开

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