NAND闪存存储单元、存储单元阵列结构及其形成方法

摘要

一种NAND闪存存储单元、存储单元阵列结构及其形成方法。所述NAND闪存存储单元包括：半导体衬底；位于所述半导体衬底上的鳍部，所述鳍部包括在竖向上层叠的源极层、沟道层和漏极层，所述沟道层位于所述源极层和漏极层中间；隧穿介质层，覆盖在部分所述鳍部的顶部和两侧；电荷陷阱层，覆盖在所述隧穿介质层的顶部和两侧；栅介质层，覆盖在所述电荷陷阱层的顶部和两侧；栅极，覆盖在所述栅介质层的顶部和两侧。所述NAND闪存存储单元具有很好的工艺尺寸持续缩小能力，并且所述NAND闪存存储单元能够从器件结构上解决存储单元读取干扰的问题。同时，所述NAND闪存存储单元阵列结构的形成方法简单，工艺成本降低。