法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-01-30
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C01B31/10 申请公布日:20160518 申请日:20140721
发明专利申请公布后的视为撤回
2016-08-03
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B31/10 申请日:20140721
实质审查的生效
2016-05-18
公开
公开
机译: 使用反应性分子吹扫气体改善基于RF等离子体的基板处理系统中的缺陷控制和DC偏置稳定性
机译: 基板移动期间使用DC偏置电压的RF等离子体基体处理系统中的缺陷控制
机译: 使用VHF-RF功率的等离子体增强CVD低K掺杂碳的氧化硅膜沉积