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机译:双DC-RF等离子体系统中氢化类金刚石碳膜的制备与表征
A-c-h; Chemical-vapor-deposition; In-situ ellipsometry; Applied bias voltage; Amorphous-carbon; Thin-films; Raman-spectra; Dlc films; Tribological properties; Substrate-temperature;
机译:双DC-RF等离子体系统中氢化类金刚石碳膜的制备与表征
机译:双DC-RF等离子体系统中氢化类金刚石碳膜的制备与表征
机译:双DC-RF等离子体系统合成的氢化氮化碳膜的制备与表征
机译:新型微波等离子体增强化学气相沉积设备,用于制备金刚石碳膜
机译:氢化和非氢化类金刚石碳涂层在干式和润滑式滑动中的摩擦学行为。
机译:金属(AgCu)纳米粒子的氢化类金刚石碳(HDLC)纳米复合薄膜的合成与表征
机译:微波功率对ECR等离子体增强直流磁控溅射制备氢化类金刚石薄膜性能的影响*
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日