透射电子显微镜用多功能复合支持膜

摘要

透射电子显微镜用多功能复合支持膜，属于显微镜支持膜技术领域。本发明是为了解决现有透射电子显微镜支持膜采用一种材料制成，当被检测材料中含有同支持膜相同的成分时，则无法检测该材料中是否真正含有该种元素，更无法确定该元素的相对含量的问题。它的复合支持膜为致密无孔型和带孔型，该复合支持膜由第一半段和第二半段拼接形成，或者由第一分段、第二分段和第三分段依次拼接组成；所述第一半段和第二半段的材质不相同，第一分段、第二分段和第三分段的材质各不相同，所述复合支持膜沉积在待沉积网格的上表面上。本发明作为一种显微镜支持膜。

说明书

技术领域

本发明涉及透射电子显微镜用多功能复合支持膜，属于显微镜支持膜技术领域。

背景技术

目前市场上能购买到的适用于透射电子显微镜分析微米、纳米材料的支持膜，全部是 单一型的，也就是支持膜是一种材料制成的。通常是在金属如铜、金、镍等或其它材质的 网格上沉积一层碳或金属物如镍薄膜。该薄膜分为致密无孔和带孔的两种类型。有些生产 者还在支持膜和金属网格之间或者金属网格的背面镀一层弗姆瓦薄膜。现有支持膜的缺点 是一旦材料中含有同支持膜相同的成分时，则无法检测该材料中是否真正含有该种元素， 更无法确定该元素的相对含量。

透射电镜用的支持膜网格多呈直径3毫米的薄片状，常见的有200目、400目的孔。 其上可沉积单一材质的致密无孔或有孔的碳膜、镍膜等。图5是金属网格及其上沉积的多 孔碳支持膜正面示意图；图6为其实物立体示意图。由于支持膜较脆弱，通常可再沉积一 层弗姆瓦支撑膜。弗姆瓦支撑膜可在薄膜和金属网格之间，亦可与支持膜分于金属网格的 两面。图7是金属网格及其上沉积碳膜横截面示意图，图8是金属网格单面上按顺序依次 沉积弗姆瓦膜和碳膜的横截面示意图，图9是金属网格双面分别沉积弗姆瓦膜和碳膜的横 截面示意图。

所述弗姆瓦，英文为Formvar，指聚乙烯醇缩甲醛和氯醋聚乙烯醇三元共聚物的一系 列产品。

发明内容

本发明目的是为了解决现有透射电子显微镜支持膜采用一种材料制成，当被检测材料 中含有同支持膜相同的成分时，则无法检测该材料中是否真正含有该种元素，更无法确定 该元素的相对含量的问题，提供了一种透射电子显微镜用多功能复合支持膜。

本发明所述透射电子显微镜用多功能复合支持膜，它包括待沉积网格，它还包括复合 支持膜，该复合支持膜为致密无孔型和带孔型，该复合支持膜由第一半段和第二半段拼接 形成，或者由第一分段、第二分段和第三分段依次拼接组成；所述第一半段和第二半段的 材质不相同，第一分段、第二分段和第三分段的材质各不相同；

所述复合支持膜沉积在待沉积网格的上表面上。

它还包括弗姆瓦膜，所述弗姆瓦膜处于复合支持膜与待沉积网格之间。

它还包括弗姆瓦膜，弗姆瓦膜沉积在待沉积网格的下表面上。

复合支持膜由第一半段和第二半段拼接形成，第一半段为碳膜，第二半段为镍膜。

所述待沉积网格为金属网格。

本发明的优点：本发明在同一片网格上沉积上两种、三种或多种不同材质的复合支持 膜，使得对不同待检测分析的试样材料均可进行检测，当待检测分析的试样材料与复合支 持膜中某一成分相同时，则可采用其它成分的拼接段位置进行检测，使用者不必事先购置 大量的不同材质的单一支持膜，尤其是在不清楚待检测材料的物质成分的情况下，不必更 换支持膜重新制备透射电镜样品。既方便了使用，提高研究效率，而且降低使用者的费用。

附图说明

图1是本发明所述透射电子显微镜用多功能复合支持膜的立体结构示意图；图中复合 支持膜由两种材质的半圆膜复合而成；

图2是待沉积网格与复合支持膜的截面示意图；图中复合支持膜的左半段和右半段分 别由两种不同的材质制成；

图3是待沉积网格、复合支持膜与弗姆瓦膜的截面示意图，弗姆瓦膜与复合支持膜位 于待沉积网格的同侧表面；图中复合支持膜的左半段和右半段分别由两种不同的材质制 成；

图4是是待沉积网格、复合支持膜与弗姆瓦膜的截面示意图，弗姆瓦膜与复合支持膜 位于待沉积网格的两侧表面；图中复合支持膜的左半段和右半段分别由两种不同的材质制 成；

图5是金属网格及其上沉积的多孔碳支持膜正面示意图；

图6是金属网格及其上沉积的多孔碳支持膜实物立体图；

图7是金属网格及其上沉积碳膜横截面示意图；

图8是金属网格单面上按顺序依次沉积弗姆瓦膜和碳膜的横截面示意图；

图9是金属网格双面分别沉积弗姆瓦膜和碳膜的横截面示意图。

具体实施方式

具体实施方式一：下面结合图1至图2说明本实施方式，本实施方式所述透射电子显 微镜用多功能复合支持膜，它包括待沉积网格1，它还包括复合支持膜2，该复合支持膜 2为致密无孔型和带孔型，该复合支持膜2由第一半段和第二半段拼接形成，或者由第一 分段、第二分段和第三分段依次拼接组成；所述第一半段和第二半段的材质不相同，第一 分段、第二分段和第三分段的材质各不相同；

所述复合支持膜2沉积在待沉积网格1的上表面上。

上述各分段内材质是均一的；所述各分段可为面积上的等分，亦可非等分。

具体实施方式二：下面结合图3说明本实施方式，本实施方式对实施方式一作进一步 说明，它还包括弗姆瓦膜3，所述弗姆瓦膜3处于复合支持膜2与待沉积网格1之间。

具体实施方式三：下面结合图4说明本实施方式，本实施方式对实施方式一作进一步 说明，它还包括弗姆瓦膜3，弗姆瓦膜3沉积在待沉积网格1的下表面上。

具体实施方式四：本实施方式对实施方式一、二或三作进一步说明，复合支持膜2 由第一半段和第二半段拼接形成，第一半段为碳膜，第二半段为镍膜。

所述第一半段可选择为碳膜或其它材质膜，第二半段可选择为镍膜或其它材质膜。

具体实施方式五：本实施方式对实施方式一、二、三或四作进一步说明，所述待沉积 网格1为金属网格。

所述待沉积网格1可采用导电导热材质制成。

本发明在同一片金属网格或者其它导电导热材质的网格上沉积上两种或多种不同材 质的复合支持膜。支持膜材料为碳、镍或其它材料；支持膜厚度和层数不限定；支持膜为 有孔或者无孔的形式：孔的大小和形状不限定。支持膜的支撑物多为弗姆瓦，可在薄膜和 金属网格之间，亦可与支持膜分列于金属网格的两面；网格采用金属或其它导电导热材质， 厚度不定；网格孔为100目、200目、400目或其它合适大小均可。

图1中，复合支持膜的面积上碳和镍各占一半；图2中复合支持膜的面积上碳和镍各 占一半；图3中金属网格单面上按顺序依次沉积弗姆瓦膜和各占一半面积的碳膜和镍膜； 图4中金属网格双面分别沉积弗姆瓦膜和各占一半面积的碳膜和镍膜。

本发明在制作时，可事先覆盖住网格的一半，并在未覆盖的一半上沉积第一种材质的 支持膜，如碳膜；然后将沉积有碳膜的那一半覆盖住，露出未沉积的另外一半，并沉积第 二种材质的支持膜，如镍膜。大批量生产时，可事先在一大块平板上加工出直径3.1毫米， 厚0.5毫米圆坑，这些圆坑成规则的二维排列，便于规则地覆盖保护和沉积工艺。其后， 将外购的或自制的外径大约3毫米的网格单个填充在这些浅坑中，所述网格为金属或其它 导电导热材料。设计特殊的盖板，一次盖住所有网格的一半，沉积第一种材质的支持膜； 然后移动盖板，保护好已沉积的部分，漏出新的部分网格，沉积第二种材质的支持膜。

三种或多种材质的支持膜的沉积工艺可参照上述方案制定。

本发明适用于显微学，电子显微学，尤其是透射电子显微学及其周边试样制备技术。