公开/公告号CN105523779A
专利类型发明专利
公开/公告日2016-04-27
原文格式PDF
申请/专利权人 中国制釉股份有限公司;
申请/专利号CN201410509577.5
申请日2014-09-28
分类号C04B41/85;C04B41/86;
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人陈小雯
地址 中国台湾新竹县
入库时间 2023-12-18 15:37:44
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-10
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B32B9/00 申请公布日:20160427 申请日:20140928
发明专利申请公布后的视为撤回
2016-05-25
实质审查的生效 IPC(主分类):C04B41/85 申请日:20140928
实质审查的生效
2016-04-27
公开
公开
机译: 功能图案前体的形成方法,功能小尺寸线图案的形成方法,透明导电膜的形成方法,器件制造方法和电气设备制造方法,以及具有功能的小尺寸线形,基数的材料电子设备
机译: 具有抗生素和远红外辐射功能的下陷地板及其制造方法
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