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形成下陷图案方法、具下陷功能材料及其制造方法和制品

摘要

本发明提供一种形成下陷图案的方法、具下陷功能材料及其制造方法和制品,此形成下陷图案的方法包含:提供陶瓷、磁砖或玻璃载体,在载体表面之上施加面釉层,以印花制作工艺在载体表面之上施加具下陷功能材料,以及进行烧制步骤,在面釉层中产生下陷图案,此下陷图案对应于具下陷功能材料施加的区域。此外,本发明通过采用具下陷功能材料及其制造方法可制成下陷图案的陶瓷、磁砖或玻璃等制品。

著录项

  • 公开/公告号CN105523779A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国制釉股份有限公司;

    申请/专利号CN201410509577.5

  • 发明设计人 蔡宪宗;蔡宪龙;林志升;

    申请日2014-09-28

  • 分类号C04B41/85;C04B41/86;

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陈小雯

  • 地址 中国台湾新竹县

  • 入库时间 2023-12-18 15:37:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-10

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B32B9/00 申请公布日:20160427 申请日:20140928

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B41/85 申请日:20140928

    实质审查的生效

  • 2016-04-27

    公开

    公开

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