法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-10
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/60 申请公布日:20160224 申请日:20151117
发明专利申请公布后的驳回
2016-03-23
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/60 申请日:20151117
实质审查的生效
2016-02-24
公开
公开
机译: 光掩模组件及其用于保护其免受光刻过程中产生的污染物影响的方法
机译: 光掩模组件及其用于保护其免受光刻过程中产生的污染物影响的方法
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