一种化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用，该化学机械抛光液含有研磨颗粒，有机酸，聚丙烯酸类，金属缓蚀剂，季胺碱，氧化剂和水。本发明的抛光液具有较高的阻挡层材料(Ta或TaN)的去除速率，满足阻挡层抛光过程中绝缘层材料和金属抛光速率选择比的要求。