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氮化物半导体层、氮化物半导体装置和用于制造氮化物半导体层的方法

摘要

根据一个实施方案,提供一种沿第一表面伸展的氮化物半导体层。所述氮化物半导体层包括第一区和第二区。所述第一区在平行于所述第一表面的第一方向上的长度大于所述第一区在平行于所述第一表面且垂直于所述第一方向的第二方向上的长度。所述第二区与所述第一区一起布置在所述第二方向上。所述第二区在所述第一方向上的长度大于所述第二区在所述第二方向上的长度。c轴相对于所述第一区和所述第二区的所述第二方向倾斜。所述c轴与垂直于所述第一表面的第三方向相交。

著录项

  • 公开/公告号CN105280775A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社东芝;

    申请/专利号CN201510245637.1

  • 发明设计人 彦坂年辉;大野浩志;布上真也;

    申请日2015-05-14

  • 分类号H01L33/32;H01L33/00;

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人苗征

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-18 13:57:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L33/32 申请公布日:20160127 申请日:20150514

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-02-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/32 申请日:20150514

    实质审查的生效

  • 2016-01-27

    公开

    公开

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