使用含有有机溶剂的显影液的显影处理方法和显影处理装置

摘要

本发明提供一种显影处理方法和显影处理装置，其在使用含有有机溶剂的显影液的显影处理中，能够使处理时间缩短并能够使处理能力提高。在对在表面涂布有抗蚀剂并对抗蚀剂进行曝光后的基板供给含有有机溶剂的显影液来进行显影的显影处理方法中，具有：使基板旋转(步骤S1)，并从显影液供给喷嘴对基板的中心部供给显影液，形成液膜形成的液膜形成工序(步骤A)；和停止从显影液供给喷嘴向基板供给显影液，并在不使显影液的液膜干燥的状态下一边使基板旋转，一边对基板上的抗蚀剂膜进行显影的显影工序(步骤B)。