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光学元件超光滑表面的抛光装置

摘要

本发明公开一种对光学元件超光滑表面抛光的装置,该装置包括剪切射流抛光盘、数控机床、工件装夹平台、浴法射流抛光平台、抛光头控制装置、射流抛光系统和液体管路,通过采用一个剪切射流抛光盘,安装在浴法数控机床上的抛光头上,通过管路与射流抛光系统相连,抛光液从经射流抛光系统的增压系统加速从剪切射流抛光盘射出,在与剪切射流抛光盘下端面紧贴的光学元件表面产生剪切射流,通过射流的剪切作用力实现光学元件的超光滑表面抛光。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。

著录项

  • 公开/公告号CN102328259A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN201110329791.9

  • 申请日2011-10-26

  • 分类号B24B13/00;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人梁爱荣

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2023-12-18 04:21:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-12-04

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B13/00 申请公布日:20120125 申请日:20111026

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-03-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B13/00 申请日:20111026

    实质审查的生效

  • 2012-01-25

    公开

    公开

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