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选择性沉积的薄膜器件以及形成选择性沉积的薄膜的方法

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本发明涉及选择性沉积的薄膜器件以及形成选择性沉积的薄膜的方法。一种用于在衬底上选择性沉积薄膜结构(515)的方法。该方法包括提供工艺气体(709)至该衬底表面(705)以及将来自能量源(701)的集中电磁能(703)引导至表面(705)的至少一部分。该工艺气体(709)分解到该衬底上以形成选择性沉积的薄膜结构(515)。还公开了用于形成选择性沉积的薄膜结构(515)的设备和薄膜器件。

著录项

公开/公告号CN102315324A

专利类型发明专利
公开/公告日2012-01-11

原文格式PDF
申请/专利权人初星太阳能公司;
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申请/专利号CN201110234925.9
发明设计人 S·D·费尔德曼-皮博迪;
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申请日2011-06-29
分类号H01L31/18;H01L31/048;H01L31/042;
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人柯广华
地址美国科罗拉多州
入库时间 2023-12-18 04:04:27

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-02-26

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L31/18 申请公布日:20120111 申请日:20110629

发明专利申请公布后的视为撤回
2012-01-11

公开

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