首页> 外国专利> SELECTIVELY DEPOSITED THIN FILM DEVICES AND METHODS FOR FORMING SELECTIVELY DEPOSITED THIN FILMS

SELECTIVELY DEPOSITED THIN FILM DEVICES AND METHODS FOR FORMING SELECTIVELY DEPOSITED THIN FILMS

机译:选择性沉积的薄膜装置和形成选择性沉积的薄膜的方法

摘要

A method for selectively depositing a thin film structure on a substrate. The method includes providing a process gas to a surface of the substrate and directing concentrated electromagnetic energy from a source of energy to at least a portion of the surface. The process gas is decomposed onto the substrate to form a selectively deposited thin film structure. A thin film device and apparatus for forming a selectively deposited thin film structure are also disclosed.
机译:一种在基板上选择性地沉积薄膜结构的方法。该方法包括向衬底的表面提供处理气体,以及将来自能量源的集中的电磁能引导至表面的至少一部分。处理气体被分解到基板上以形成选择性沉积的薄膜结构。还公开了用于形成选择性沉积的薄膜结构的薄膜装置和设备。

著录项

  • 公开/公告号US2011315209A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-12-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SCOTT DANIEL FELDMAN-PEABODY;

    申请/专利号US20100825815

  • 发明设计人 SCOTT DANIEL FELDMAN-PEABODY;

    申请日2010-06-29

  • 分类号H01L31/0296;H01L31/18;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:30:13

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号