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机译:溅射沉积的副计MOO_x薄膜作为硅基异质结装置的空穴选择性接触层
Indian Inst Technol Delhi Ctr Energy Studies New Delhi 110016 India|Delhi Univ Sri Venkateswara Coll New Delhi 110021 India;
Indian Inst Technol Delhi Ctr Energy Studies New Delhi 110016 India;
Silicon heterojunction; Molybdenum oxide; Sputtering; Hole-selective contact; Work function;
机译:溅射沉积的亚化学计量的MoO_x薄膜作为基于硅的异质结器件的空穴选择接触层
机译:喷雾热解MOO_3薄膜的结构,光学和电性能通过不同的前体摩尔,作为硅基异质结装置的空穴选择性接触
机译:超薄原子层沉积硅太阳能电池的氧化铝孔选择性触点
机译:基于RF溅射MOO_x硅杂交太阳能电池的孔选择性触点的界面分析
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:射频磁控溅射碳化硅和钨hen基薄膜热电偶保护涂层的热电特性
机译:氢化非晶硅薄膜作为钝化层,用于杂交偏光PECVD用于异质结太阳能电池